Главная / блог /

генерация микроразрядов в алмазных подложках

блог

генерация микроразрядов в алмазных подложках

2018-07-11

мы сообщаем о генерации микроразрядов в устройствах, состоящих из микрокристаллическихбриллиант, разряды генерировались в структурах устройств с геометриями микрохолодного катодного разряда. одна структура состояла из изолирующей алмазной пластины, покрытой слоями алмаза с бором с обеих сторон. вторая структура состояла из изолирующей алмазной пластины, покрытой металлическими слоями с обеих сторон. в каждом случае через проводник-изолятор-проводящую конструкцию обрабатывали одно отверстие в миллиметре. разряды генерировались в атмосфере гелия. напряжение пробоя составляло около 500 В, а разрядные токи в диапазоне 0,1-2,5 мА поддерживались постоянным напряжением постоянного тока 300 В.


Источник: iopscience

Для получения более подробной информации, пожалуйста, посетите наш веб-сайт:www.semiconductorwafers.net,

отправьте нам письмо по адресуangel.ye@powerwaywafer.comилиpowerwaymaterial@gmail.com



свяжитесь с нами

если вам нужна цитата или дополнительная информация о наших продуктах, пожалуйста, оставьте нам сообщение, ответьте как можно скорее.