Главная / Новости /

Поглощение и дисперсия в нелегированном эпитаксиальном слое GaSb

Новости

категории

Рекомендуемые продукты

последние новости

Поглощение и дисперсия в нелегированном эпитаксиальном слое GaSb

2019-07-16

В данной работе мы представляем результаты теоретического и экспериментального исследования показателя преломления и поглощения при комнатной температуре нелегированного эпитаксиального слоя GaSb толщиной 4 мкм, нанесенного на подложку GaAs . Выведена теоретическая формула оптического пропускания через эталон с учетом конечной длины когерентности света. Эта формула использовалась для анализа измеренных спектров пропускания. Показатель преломления определяли в широком спектральном диапазоне от 0,105 до 0,715 эВ. Поглощение определяли для энергий фотонов от 0,28 эВ до 0,95 эВ. В спектре поглощения наблюдался хвост Урбаха, а также постоянный рост поглощения в области спектра выше запрещенной зоны.


Источник: IOPscience

Для получения дополнительной информации посетите наш веб-сайт: www.semiconductorwafers.net , 

отправьте нам электронное письмо по адресу  sales@powerwaywafer.com  или  powerwaymaterial@gmail.com


свяжитесь с нами

если вам нужна цитата или дополнительная информация о наших продуктах, пожалуйста, оставьте нам сообщение, ответьте как можно скорее.