в этой статье мы рассмотрели разработки по изготовлению неполярных (т-плоскости и а-плоскости) и полуполярных (т. е. (20,1)) пластин методом аммонотермических измерений. описаны способ роста и результаты полировки. нам удалось изготовить неочищенные и полуполярные пластины 26 мм × 26 мм. эти пластины обладают выдающимися структурными и оптическими свойствами с плотностью дислокаций с резьбой порядка 104 см-3. также представлены подробные исследования гомоэпитаксиальных слоев, а также гетероструктуры аганов, показывающие потенциал изученных аммонотермических субстратов при изготовлении оптоэлектронных устройств.
источник: iopscience
Для получения более подробной информации, пожалуйста, посетите наш веб-сайт: http://www.semiconductorwafers.net ,
отправьте нам письмо по адресу angel.ye@powerwaywafer.com или powerwaymaterial@gmail.com ,
Контактная информация
luna@powerwaywafer.compowerwaymaterial@gmail.com 
+86-592-5601 404
