-
gan шаблоны
Продукты шаблона pam-xiamen состоят из кристаллических слоев нитрида галлия (гана), нитрида алюминия (aln), нитрида алюмини галлия (algan) и нитрида галлия индия (ingan), которые осаждаются на сапфировые подложки, кремниевый карбид или кремний. Продукты шаблона pam-xiamen позволяют сократить время цикла эпитаксии на 20-50% и слоты более высокого качества эпитаксиальных устройств с лучшим качеством конструкции и более высокой теплопроводностью, что может улучшить устройства по стоимости, производительности и производительности. -
автономный газовый субстрат
pam-xiamen установила технологию изготовления для автономной (галлиево-нитридной) пластины подложки gan, которая предназначена для uhb-led и ld. выращенный методом гидридной парофазной эпитаксии (hvpe), наш газовый субстрат имеет низкую плотность дефектов. -
на основе эпитаксиальной пластины
Эпитаксиальная пластина на основе ламината pam-xiamen's (галлиевого нитрида) предназначена для применения в ультра-высокой яркости синего и зеленого светодиодов (светодиодных) и лазерных диодов (ld). -
gan hemt эпитаксиальная пластина
нитрид галлия (gan) (транзисторы с высокой электронной подвижностью) являются следующим поколением высокочастотной транзисторной технологии. Благодаря технологии gan, pam-xiamen теперь предлагает epig wafer algan / gan на сапфире или кремнии и шаблон algan / gan на сапфире , -
фото маски
Предложения pam-xiamen фотошаблонов фотомаска - это тонкое покрытие маскирующего материала, поддерживаемого более толстой подложкой, и маскирующий материал в разной степени поглощает свет и может быть выполнен с использованием индивидуального дизайна. шаблон используется для модуляции света и передачи картины через процесс фотолитографии, который является основным процессом, используемым для создания почти всех современных цифровых устройств.горячие теги : фото маски фотошаблон изготовление фотомаски печать фотомаски технология mems печать фотолитографической маски
-
Нанофабрикация
pam-xiamen предлагает фоторезистскую пластину с фоторезистом мы можем предложить нанолитографию (фотолитография): подготовка поверхности, фоторезист, мягкое выпекание, выравнивание, экспозиция, разработка, твердый выпекание, разработка инспекции, травление, удаление фоторезиста (полоска), окончательная проверка.горячие теги : фотолитография Нанофабрикация изготовление вафель фоторезиста производство полупроводников изготовление вафель
-
inas wafer
xiamen powerway предлагает ines wafer - арсенид индия, которые выращены lec (жидкий инкапсулированный czochralski) как эпи-готовый или механический класс с n-типом, p-типом или полуизоляцией в различной ориентации (111) или (100).горячие теги : inas wafer в субстрате пластина арсенида индия субстрат арсенида индия полупроводник из арсенида индия структура арсенида индия
Контактная информация
+86-592-5601 404