-
автономный газовый субстрат
pam-xiamen установила технологию изготовления для автономной (галлиево-нитридной) пластины подложки gan, которая предназначена для uhb-led и ld. выращенный методом гидридной парофазной эпитаксии (hvpe), наш газовый субстрат имеет низкую плотность дефектов. -
gan шаблоны
Продукты шаблона pam-xiamen состоят из кристаллических слоев нитрида галлия (гана), нитрида алюминия (aln), нитрида алюмини галлия (algan) и нитрида галлия индия (ingan), которые осаждаются на сапфировые подложки, кремниевый карбид или кремний. Продукты шаблона pam-xiamen позволяют сократить время цикла эпитаксии на 20-50% и слоты более высокого качества эпитаксиальных устройств с лучшим качеством конструкции и более высокой теплопроводностью, что может улучшить устройства по стоимости, производительности и производительности. -
на основе эпитаксиальной пластины
Эпитаксиальная пластина на основе ламината pam-xiamen's (галлиевого нитрида) предназначена для применения в ультра-высокой яркости синего и зеленого светодиодов (светодиодных) и лазерных диодов (ld). -
gan hemt эпитаксиальная пластина
нитрид галлия (gan) (транзисторы с высокой электронной подвижностью) являются следующим поколением высокочастотной транзисторной технологии. Благодаря технологии gan, pam-xiamen теперь предлагает epig wafer algan / gan на сапфире или кремнии и шаблон algan / gan на сапфире , -
субстрат
pam-xiamen предлагает полупроводниковые пластины из карбида кремния, 6h sic и 4h sic в разных классах качества для исследователя и промышленными производителями. мы разработали технологию выращивания кристаллов sic и технологию обработки кристаллов sic crystal, установила производственную линию для изготовителя sic-субстрата, который применяется в gan-эпитаксии, силовых устройствах, высокотемпературное устройство и оптоэлектронные устройства. как профессиональная компания, инвестированная ведущими производителями из областей передовых и высокотехнологичные исследования материалов и государственные институты и китайская полупроводниковая лаборатория, мы посвящаем себя непрерывному улучшить качество существующих субстратов и разработать подложки большого размера.горячие теги : 4h sic 6h sic sic wafer карбид кремния подложка из карбида кремния цена на салфетку
-
сик-эпитаксия
мы предоставляем индивидуальную экситаксию тонкой пленки (карбид кремния) на подложках 6h или 4h для разработки устройств из карбида кремния. sic epi wafer в основном используется для диодов Шоттки, полупроводниковых полевых транзисторов с металлическим оксидом, транзисторов с полевым эффектом перехода, биполярных транзисторов, тиристоров, gto и изоляционных затворов биполярных.горячие теги : сик-эпитаксия эпитопное осаждение эпитаксиальная пластина Карбид кремния диодный диод
-
Реставрация
pam-xiamen может предложить следующие услуги по рекуперации.горячие теги : рельефная пластина вафельные услуги услуги по возврату вафли вафельные услуги обработка пластины восстановление пластины
-
sic application
благодаря сильным физическим и электронным свойствам устройство на основе карбида кремния хорошо подходит для коротковолновых оптоэлектронных, высокотемпературных, радиационностойких и высокомощных / высокочастотных электронных устройств по сравнению с устройством на основе si и gaas.горячие теги : sic application вафельный чип вафельный тракт свойства карбида кремния монокристаллический карбид кремния
-
газы (арсенид галлия)
pwam разрабатывает и производит составные полупроводниковые подложки - кристалл арсенида галлия и вафли. Мы использовали передовые технологии выращивания кристаллов, технологию вертикальной градиентной заморозки (vgf) и технологии обработки валов gaas, создали производственную линию от роста кристаллов, резки, шлифования до обработки полировки и построили чистая комната класса 100 для очистки и упаковки пластин. наша гаасовая пластина включает в себя слитки / пластины 2 ~ 6 дюймов для приложений led, ld и microelectronics. Мы всегда стремимся улучшить качество существующих подстанций и разрабатывать подложки большого размера. -
gaas epiwafer
мы производим различные типы полупроводниковых материалов n-типа с полупроводниковыми материалами типа n-типа, основанные на ga, al, in, as и p, выращенные mbe или mocvd. мы поставляем таможенные структуры для удовлетворения требований заказчика. свяжитесь с нами для получения дополнительной информации. -
inp wafer
xiamen powerway предлагает inp wafer - фосфид индия, которые выращивают по lec (жидкий инкапсулированный czochralski) или vgf (вертикальное градиентное замораживание) в виде эпи-готового или механического сорта с n-типом, p-типом или полуизоляцией в различной ориентации (111) или ( 100).горячие теги : inp wafer inp субстрат пластина фосфида индия фосфидный субстрат цена на дюйм производители фосфида индия
-
inas wafer
xiamen powerway предлагает ines wafer - арсенид индия, которые выращены lec (жидкий инкапсулированный czochralski) как эпи-готовый или механический класс с n-типом, p-типом или полуизоляцией в различной ориентации (111) или (100).горячие теги : inas wafer в субстрате пластина арсенида индия субстрат арсенида индия полупроводник из арсенида индия структура арсенида индия