мы сообщаем о генерации микроразрядов в устройствах, состоящих из микрокристаллическихбриллиант, разряды генерировались в структурах устройств с геометриями микрохолодного катодного разряда. одна структура состояла из изолирующей алмазной пластины, покрытой слоями алмаза с бором с обеих сторон. вторая структура состояла из изолирующей алмазной пластины, покрытой металлическими слоями с обеих сторон. в каждом случае через проводник-изолятор-проводящую конструкцию обрабатывали одно отверстие в миллиметре. разряды генерировались в атмосфере гелия. напряжение пробоя составляло около 500 В, а разрядные токи в диапазоне 0,1-2,5 мА поддерживались постоянным напряжением постоянного тока 300 В.
Источник: iopscience
Для получения более подробной информации, пожалуйста, посетите наш веб-сайт:www.semiconductorwafers.net,
отправьте нам письмо по адресуangel.ye@powerwaywafer.comилиpowerwaymaterial@gmail.com
Wafer Foundry: 26-32#, Liamei Rd. Lianhua Industrial Area, Tong an, Xiamen 361100, China