в этой статье предлагается новый трехмерный (3d) фотолитография технологии для микропроцессорного процесса с высоким разрешением на волокнистой подложке. также представлен краткий обзор технологии литографии неплоской поверхности. предлагаемая технология в основном включает в себя микрообработку трехмерного модуля экспозиции и напыление тонких пленок сопротивления на волокно. 3D-модуль экспозиции ...
интенсивность и интенсивность света рассеяния кислорода в cz-кремний кристаллы измеряются с помощью светорассеивающей томографии. численные данные, проясненные посредством измерений, обсуждаются в отношении количества осажденного кислорода. полученные здесь результаты хорошо согласуются с теоретическим анализом того, что осадки кислорода вызывают рассеяние света. информация, полученная с помощью с...
Облучение ионного пучка было рассмотрено как способ создания наноразмерных полупроводниковых столбчатых и конусообразных структур, но имеет недостаток в неточном размещении наноструктур. Мы сообщаем о методе создания и шаблонирования наноразмерных InAs спайки путем фокусированного ионного пучка (FIB) облучения как гомоэпитаксиальных пленок InAs, так и гетероэпитаксиальных InAs на подложках InP. Эт...
Для реализации высокопроизводительного карбида кремния ( SiC ), должны быть разработаны низкоомные омические контакты с p-образным SiC. Для уменьшения омического контактного сопротивления требуется снижение высоты барьера на границах металл / SiC или увеличение концентрации легирования на подложках SiC. Поскольку уменьшение высоты барьера чрезвычайно затруднено, увеличение концентрации легирования...
Рентгенографическое и химическое травление Si: Ge монокристаллы содержание 1,2 ат.% и 3,0 ат.% Ge вместе с точными измерениями параметров решетки. Дифракционные контрасты в виде концентрических «квазикругов» (полос), вероятно, из-за неоднородного распределения атомов Ge, наблюдались на проекционных топографах. Образцы травления показали полосы, соответствующие полосам и дислокациям как ямы травлен...
Мы представляем бесконтактный метод для определения времени теплового отклика датчиков температуры, встроенных в пластины. В этом методе импульсная лампа освещает пятно на пластине периодическими импульсами; пятно находится на противоположной стороне от тестируемого датчика. Тепловая постоянная времени датчика затем получается из измерения его временного отклика вместе с теоретической моделью тепл...
Используя усиленное в плазме химическое осаждение из паровой фазы (PECVD) на частоте 13,56 МГц, на начальном этапе роста гидрированного микрокристаллического материала изготавливают затравочный слой. кремний германий (μc-Si1-xGex: H) i-слой. Влияние процессов высева на рост слоев µc-Si1-xGex: H i и производительность μc-Si1-xGex: H p-i-n однопереходные солнечные элементы исследуются. Применяя этот...
Ортогональные эксперименты роста пленок GaSb на GaAs подложка были разработаны и выполнены с использованием системы осаждения паров металлов и органических паров низкого давления (LP-MOCVD). Кристалличность и микроструктура полученных пленок были сравнительно проанализированы для достижения оптимальных параметров роста. Было продемонстрировано, что оптимизированная тонкая пленка GaSb имеет узкую п...
Контактная информация
luna@powerwaywafer.compowerwaymaterial@gmail.com 
+86-592-5601 404
